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光学材料

苏大维格获得发明专利授权:“一种光学转移材料及其制备方法”

        根据天眼查APP数据显示苏大维格(300331)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种光学转移材料及其制备方法”,专利申请号为CN202111005406.5,授权日为2024年12月3日。

         专利摘要:一种光学转移材料的制备方法,包括:提供基膜;在所述基膜上涂布UV树脂涂层;用具有微纳结构的模具将微纳结构模压复制在所述UV树脂涂层上并进行UV固化,模压时在所述UV树脂涂层与模具之间填充隔离剂;在所述UV树脂涂层具有微纳结构的一侧复合基底;剥离所述基膜。本发明提供的光学转移材料及其制备方法,通过模压时在UV树脂涂层与模具之间填充隔离剂,使得UV树脂涂层与模具容易剥离,并且UV树脂涂层转移至基底时基膜剥离容易,从而制作简单,工艺性好,且基膜可循环利用,同时光学转移材料表面无基膜,环保易降解。

         今年以来苏大维格新获得专利授权32个,较去年同期增加了18.52%。结合公司2024年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了6693.39万元,同比增11.68%。

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